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株式会社ヤシマは、真空技術を通じ社会と環境への貢献を目指す企業です☆

TEL. 072-685-5129

〒569-1122 大阪府高槻市月見町3-1

真空成膜装置THIN FILM DEPOSION SYSTEM

電子ビーム真空蒸着装置

電子ビーム蒸着装置


電子ビームにて成膜材料を加熱・蒸発させて基板に成膜します。高融点材料の成膜に最適です。
当社のがご提案致しますシステムは装置全体をシンプルに構成することです。それは---

  • 視認しやすい事からシステム
    の理解・指導が容易
  • 使いやすさの向上
  • メンテナンスが容易
  • コストを抑え、予算内でのより
    高機能な部品の使用が可能

抵抗加熱式真空蒸着装置

蒸着装置ベーシックな真空蒸着装置です。
汎用性が高く、電子顕微鏡の試料コートから本格的なデバイスの開発まで幅広くお使い頂けます。
幅広く本格的にお使い頂けるよう当社が提案致しますシステムは---

  • ターボ分子ポンプなどを使用し高/超高真空に
    対応したシステム
  • 膜厚計を装備し、必要に応じて安定化電源を用いた
    詳細な制御が可能なシステム
  • 既にお持ちの機器等を用いてコストを抑えた
    システム

有機材真空蒸着装置○○○○○○○○イメージ

K-セルは当社独自開発でセル全体を均一に加熱します。
当社の標準的システムは---

  • 清浄な真空下での成膜---超高真空+
                 ロードロックシステム
  • グローブボックスを接続---成膜後の基板取扱い時
                大気に触れることなく
                不活性ガス雰囲気で。

簡易型抵抗加熱式真空蒸着装置

真空蒸着装置 小型高真空排気装置に蒸着システムをセットした簡易型です。何よりも安価でできることが魅力です。入力AC100V,出力10V×150A(標準)
  • 主要な部品はステンレス製です。美しく使えます。
  • ターボ分子ポンプの設定もあります。
  • メンテナンスが楽です。

ナチュラトロンスパッタ装置

スパッタ装置 30年以上も前に開発されたスパッタ方式。現在も進化しています。特徴として
  • MO膜の高速スパッタ
  • 低温・プラズマダメージフリー
  • パラメータの高い独立制御性
→Arガス,Cuターゲットでの放電
閉じ込められたプラズマ中にてスパッタ粒子のCuが活性種となり緑色を呈しています。またプラズマの左限界部分がはっきりしており、基板へのダメージが少ないことを示しています。そして均一なプラズマ分布がターゲットの高い利用効率を実現し、セラミック化を防いでいます。
プラズマ

マグネトロンスパッタ装置

スパッタ装置 一般的なスパッタ方式として広く使われています。当社はシンプルで使いやすい装置を提供できるよう、ご使用目的等に考慮してご提案しています。
実験機の標準的仕様
  • ターゲット:φ80~φ150 単元〜3元
  • 電源:RF(300W~1kw),DC(500W~3kw)
  • オプション:基板回転,基板加熱,ロードロック機構など
スパッタ装置

PLD装置

PLD装置 PLD(パルスレーザー蒸着装置)は高温超電導膜など誘電体作成に主に利用され、酸化物のエピタキシャル成長に用いられています。
標準仕様
  • ターゲット数:4(回転切替)
  • RHEED等取付ポート数:10
  • 超高真空仕様チェンバー
  • ロードロック機構付

バナースペース

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